首頁(yè) >> 公司動(dòng)態(tài) >> 報(bào)名中 | 紅外光譜技術(shù)在硅材料質(zhì)控分析中的應(yīng)用(英文)
在許多應(yīng)用領(lǐng)域,如可再生能源(光伏或氫氣技術(shù))、航空航天和電子領(lǐng)域,半導(dǎo)體(尤其是硅)是不可少的基礎(chǔ)材料。為了保證高效率和產(chǎn)品質(zhì)量,以雜質(zhì)的識(shí)別和定量、缺陷的檢測(cè)或光學(xué)器件的功能測(cè)試為形式的硅質(zhì)量控制成為半導(dǎo)體工業(yè)中一項(xiàng)關(guān)鍵而艱巨的任務(wù)。
該系列網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)分為兩部分,在下周的第二場(chǎng)中,我們將向您介紹使用傅立葉變換紅外光譜進(jìn)行半導(dǎo)體質(zhì)量控制的高靈敏度解決方案,歡迎屆時(shí)參加。
主題:
High sensitivity Silicon QC using FT-IR Spectroscopy
語(yǔ)言:英文(English)
時(shí)間:
第二場(chǎng):6月21日(周一) 晚上10點(diǎn)-11點(diǎn)
第二場(chǎng)(重播): 6月22日(周二)下午3點(diǎn)-4點(diǎn)
(*以上為北京時(shí)間)
會(huì)議使用GOTOWEBINAR平臺(tái),由布魯克德國(guó)紅外應(yīng)用專(zhuān)家主講。
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