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暗場照明用于晶片檢查

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更新時(shí)間:2017-08-29 14:18:36瀏覽次數(shù):412

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暗場照明用于晶片檢查
在工業(yè)圖像處理中,暗場照明在高反射表面的研究尤為重要。該光束以低角度入射角被引導(dǎo)到物體的表面上,對于一個(gè)*無瑕的表面反射,不會(huì)撞擊在相機(jī)上而掃描出現(xiàn)*黑暗。

詳細(xì)介紹

在工業(yè)圖像處理中,暗場照明在高反射表面的研究尤為重要。該光束以低角度入射角被引導(dǎo)到物體的表面上,對于一個(gè)*無瑕的表面反射,不會(huì)撞擊在相機(jī)上而掃描出現(xiàn)*黑暗。

然而,如果表面凹凸存在任何損傷如劃痕、裂縫,雜質(zhì)如灰塵、絨毛和脂肪,然后入射光的一小部分被漫散射,由照相機(jī)鏡頭所拍到達(dá)傳感器,呈亮色。因而細(xì)小凹凸不平因此可以檢測到,使透鏡的分辨率擴(kuò)大到極限。

應(yīng)用領(lǐng)域

高反射性材料的表面檢查,諸如芯片,晶片或鏡像表面,突出輪廓,劃痕,骨折,灰塵顆粒和污物。

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