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Trion Orion HDCVD-Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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更新時(shí)間：2024-11-04 21:00:07

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First-Nano: 刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

薄膜測(cè)量系統(tǒng): 接觸角測(cè)量系統(tǒng) 橢偏儀光譜反射儀薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

半自動(dòng)引線鍵合機(jī): WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Etching刻蝕系統(tǒng): ICP低溫刻蝕離子銑離子束刻蝕等離子反應(yīng)離子刻蝕

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 單片晶圓兆聲清洗機(jī) 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

Harrick等離子清洗機(jī): 高功率等離子清洗機(jī) 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 基本型等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)真空泵氣體流量混合器

測(cè)量?jī)x器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

PIE 等離子清洗機(jī): PDC-32G 等離子清洗機(jī) Tergeo-plus 等離子清洗機(jī) Tergeo / 旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

QCM/石英晶體微分析儀: 石英晶體微分析儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積磁控濺射系統(tǒng) 高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

美國(guó)杜邦Dupont: EKC270蝕刻殘留物去除劑 EKC265蝕刻殘留物去除劑

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái): 磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

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Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí)，會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機(jī)物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。

該系統(tǒng)可以升級(jí)傳送Loadlock，或添加到集群平臺(tái)Cluster。

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