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當(dāng)前位置：德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司>>產(chǎn)品展示>>Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
PECVD沉積可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...
德國韋氏納米系統(tǒng)專門為大學(xué)，研究機(jī)構(gòu)提供了一系列高真空/超高真空桌面型熱蒸發(fā)鍍膜工藝平臺。
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