如何解決色譜柱使用過程出現(xiàn)的問題
問題:
不同色譜柱間差異
使用期間柱變化
原因:
填料、鍵合相不同
柱床破壞
鍵合相丟失
硅膠基質溶解
強保留組分堆積堵塞
表現(xiàn):
保留因子(k),分離因子(α)
柱效(N)
保留因子(k),分離因子(α)
柱效(N)
保留因子(k),柱效(N)
問題:
柱外效應
原因:
系統(tǒng)差異、進樣量大、進樣閥與色譜柱之間、色譜柱與檢測器之間的管路太長、檢測器流通池體積大、接頭死體積大等。
表現(xiàn):
柱效(N)
問題:
分離效果變差
原因:
流動相組分改變
流速改變
溫度改變
表現(xiàn):
保留因子(k),柱效變化很小
保留因子(k),分離因子(α)
保留因子(k),柱效變化很小
問題:
柱平衡慢
原因:
重新平衡時間不夠
柱超載樣品量太大
表現(xiàn):
保留因子(k),柱效變化很小
保留因子(k),柱效(N)
造成色譜峰(不對稱)拖尾的原因
1.色譜柱本身填裝問題,篩板堵塞或填料塌陷;
2.柱頭有污染;
3.樣品超載;
4.樣品溶劑不合適;
5.柱外效應;
6.化學或二次保留(硅羥基)效應;
7.緩沖容量不足或不合適;
8.重金屬污染。
如何解決峰形拖尾的問題
A.與化學有關的拖尾問題
1.流動相中,加入30mM的三乙胺(用于堿性化合物)或醋酸胺(用于酸性化合物),未知化合物加醋酸三乙胺;
2.如仍然拖尾,將三乙胺換為二甲基辛胺(或醋酸二甲基辛胺);
3.降低進樣量至<1μg。
B.與色譜柱有關的拖尾問題
1.如柱頭處有強保留的樣品組分積聚,反相柱可用20倍柱體積的96%的二氯甲烷與4%甲醇,加1%氫氧化銨混合液沖洗;正向柱可用甲醇沖洗;
2.使用保護柱。
C.與HPLC系統(tǒng)有關的峰拖尾和峰加寬
1.進樣體積過大,(通常≤25μL);
2.進樣閥與色譜柱及檢測器之間的管路體積過大(*連接管應<20cm,內徑為0.007");
3.檢測器流通池的體積過大。
慧德易公司*代理DEVELOSIL、Chisso公司的色譜柱及色譜耗材產(chǎn)品;
一級代理TOSOH(東曹)、YMC、Shodex(昭和)、陶氏等色譜柱及色譜耗材產(chǎn)品;
歡迎廣大用戶前來選購,北京慧德易全體員工竭誠為您服務!www.prep-hplc.com/1/2/3全國4008-111-326
問題:
不同色譜柱間差異
使用期間柱變化
原因:
填料、鍵合相不同
柱床破壞
鍵合相丟失
硅膠基質溶解
強保留組分堆積堵塞
表現(xiàn):
保留因子(k),分離因子(α)
柱效(N)
保留因子(k),分離因子(α)
柱效(N)
保留因子(k),柱效(N)
問題:
柱外效應
原因:
系統(tǒng)差異、進樣量大、進樣閥與色譜柱之間、色譜柱與檢測器之間的管路太長、檢測器流通池體積大、接頭死體積大等。
表現(xiàn):
柱效(N)
問題:
分離效果變差
原因:
流動相組分改變
流速改變
溫度改變
表現(xiàn):
保留因子(k),柱效變化很小
保留因子(k),分離因子(α)
保留因子(k),柱效變化很小
問題:
柱平衡慢
原因:
重新平衡時間不夠
柱超載樣品量太大
表現(xiàn):
保留因子(k),柱效變化很小
保留因子(k),柱效(N)
造成色譜峰(不對稱)拖尾的原因
1.色譜柱本身填裝問題,篩板堵塞或填料塌陷;
2.柱頭有污染;
3.樣品超載;
4.樣品溶劑不合適;
5.柱外效應;
6.化學或二次保留(硅羥基)效應;
7.緩沖容量不足或不合適;
8.重金屬污染。
如何解決峰形拖尾的問題
A.與化學有關的拖尾問題
1.流動相中,加入30mM的三乙胺(用于堿性化合物)或醋酸胺(用于酸性化合物),未知化合物加醋酸三乙胺;
2.如仍然拖尾,將三乙胺換為二甲基辛胺(或醋酸二甲基辛胺);
3.降低進樣量至<1μg。
B.與色譜柱有關的拖尾問題
1.如柱頭處有強保留的樣品組分積聚,反相柱可用20倍柱體積的96%的二氯甲烷與4%甲醇,加1%氫氧化銨混合液沖洗;正向柱可用甲醇沖洗;
2.使用保護柱。
C.與HPLC系統(tǒng)有關的峰拖尾和峰加寬
1.進樣體積過大,(通常≤25μL);
2.進樣閥與色譜柱及檢測器之間的管路體積過大(*連接管應<20cm,內徑為0.007");
3.檢測器流通池的體積過大。
慧德易公司*代理DEVELOSIL、Chisso公司的色譜柱及色譜耗材產(chǎn)品;
一級代理TOSOH(東曹)、YMC、Shodex(昭和)、陶氏等色譜柱及色譜耗材產(chǎn)品;
歡迎廣大用戶前來選購,北京慧德易全體員工竭誠為您服務!www.prep-hplc.com/1/2/3全國4008-111-326
相關產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。