手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
實驗室方腔等離子清洗機是一種用于表面清洗、去除有機污染物、氧化層和其他雜質(zhì)的設備，其主要功能和用途包括：
表面清洗：方腔等離子清洗機利用等離子體和化學氣相反應，可以對材料表面進行有效的清洗，去除附著在表面的油脂、塵埃、污垢等有機污染物。
去除氧化層：對于一些金屬或半導體材料，表面可能形成氧化層，影響其性能和表面質(zhì)量。方腔等離子清洗機可以通過等離子體清洗的方法，去除氧化層，使表面恢復清潔。
去除雜質(zhì)：在實驗室中，一些材料表面可能會附著一些難以去除的雜質(zhì)，如光刻膠殘留、有機污染物等。方腔等離子清洗機可以通過高能離子轟擊和氣相反應，有效地去除這些雜質(zhì)。
提高表面粗糙度：方腔等離子清洗機還可以對材料表面進行微觀的改變，提高表面粗糙度或改善表面特性，以滿足一些特定的應用需求。
總的來說，實驗室方腔等離子清洗機在實驗室研究、半導體生產(chǎn)、光學器件制造等領域具有重要的清洗和處理作用，可用于改善材料表面的質(zhì)量和性能。
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心