手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
磁控離子濺射儀是一種先進的物理氣相沉積設(shè)備，其技術(shù)原理基于高能粒子（主要是離子）轟擊靶材的過程。在高真空環(huán)境中，電子在電場的作用下加速并飛向靶材，途中與氬原子發(fā)生碰撞，產(chǎn)生Ar正離子和新的電子。這些Ar正離子在電場作用下進一步加速，以高能量轟擊靶材表面，使靶材原子或分子獲得足夠的能量而脫離靶材表面，形成濺射粒子。這些濺射粒子隨后沉積在基體上，形成所需的薄膜。
磁控離子濺射儀的工業(yè)應(yīng)用極為廣泛，主要得益于其高效、均勻且可控的濺射過程。在微電子領(lǐng)域，磁控濺射技術(shù)被用于制備高質(zhì)量的導(dǎo)電層、絕緣層以及各種功能薄膜，以滿足集成電路制造中對材料性能的高要求。在光學(xué)領(lǐng)域，該技術(shù)則用于制備光學(xué)薄膜、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等，以提升產(chǎn)品的光學(xué)性能和外觀質(zhì)量。此外，磁控濺射儀還在材料科學(xué)、表面工程、機械加工等多個領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，為制備高性能、高附加值的材料提供了有力支持。
綜上所述，磁控離子濺射儀以其的技術(shù)原理和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，成為了現(xiàn)代工業(yè)制造中的重要設(shè)備之一。隨著科技的不斷進步和工業(yè)的持續(xù)發(fā)展，磁控濺射技術(shù)有望在更多領(lǐng)域展現(xiàn)出其的魅力和價值。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心