感謝江蘇先科半導(dǎo)體材料選擇我司日本代理品牌SEN紫外線洗浄改質(zhì)裝置
先科主要致力于電子半導(dǎo)體材料, 深冷復(fù)合材料以及塑料助劑材料研發(fā)和生產(chǎn)
通過多種方式參與到集成電路(晶圓制造及封裝)、平板顯示(包含LCD及OLED) 等電子制造產(chǎn)業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)。
紫外線洗浄改質(zhì)裝置是運用短波長紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗機
利用紫外線(UV)的表面處理方法,使用化學(xué)溶液作為光敏劑,但基本上都是干法工藝,可以在大氣中處理,沒有經(jīng)過特殊改性,質(zhì)量和清潔效果良好。
改性直接提高固體表面的粘合強度,而清洗則通過去除表面形成軟粘合層的有機污染膜,間接有助于提高粘合強度并穩(wěn)定質(zhì)量。
主要應(yīng)用在 EPROM/Wafer 晶圓/IC芯片光擦除,晶圓光清洗制程,IC封裝/貼合、薄膜、光學(xué)玻璃、晶圓、玻璃面板等的精細(xì)處理的表面改性和清洗。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
1、具有高紫外光強輸出,光照面更加均勻
2、結(jié)構(gòu),同時兼容8寸或者12寸晶圓;
3、紫外強度輸出高達(dá)≥50000μW/cm2,擦除時間更快;
4、可根據(jù)擦除條件或應(yīng)用要求提供專門的定制方案
5、本機的正面為單開門,試驗品可以很容易的放取。
6、試驗臺到光源使用特定的升降機可以任意改變高度,照度可以使用照度計測定。
7、機器內(nèi)部產(chǎn)生的臭氧經(jīng)過特別設(shè)置的排出口排出。
日本SEN紫外線洗浄改質(zhì)裝置主要應(yīng)用在食品包材、PS片材、薄膜表面、衛(wèi)生用品等產(chǎn)品上
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集塵電路、LCD液晶面板、大學(xué)研究院校等行業(yè)
京都玉崎專業(yè)為工業(yè)用UV固化系統(tǒng)提供解決方案,歡迎各大公司聯(lián)絡(luò)交流。
京都玉崎專做日本進(jìn)口產(chǎn)品,包含但不限于特殊光源、計測工具、科學(xué)儀器、機械加工備品、環(huán)境試驗設(shè)備、PC周邊工具等
我司代理及優(yōu)勢品牌一覽明細(xì):
代理品牌:SEN日森、CCS晰寫速、EYE巖崎、REVOX萊寶克斯、SERIC索萊克
SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林時計、NPM日脈
NS日本科學(xué)、DRY-CABI東利繁、TOKISANGYO東機、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山
優(yōu)勢品牌:USHIO牛尾、TOPCON拓普康、AITEC艾泰克、FUNATECH船越龍、ORC歐阿西
SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂詰、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU電色、KKIMAC
S-VANS斯萬斯、ORIHARA折原、LUCEO魯機歐、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光學(xué)
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA東亞電波、OKANO岡野
IMV艾目微、MITUTOYO三豐、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三榮
HEIDON新東、KURABO倉紡、SHOWA昭和、THINKY新基
SURUGA駿河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤
RKC理化、MACOME碼控美、EIWA榮和、EXCEL艾庫斯、YODOGAWA淀川等
優(yōu)勢產(chǎn)品:日本紫外線照度計、紫外線裝置燈管、LED視覺光源、表面檢查燈、手持檢測燈
變色燈箱、色差儀、鹵素光源裝置、應(yīng)力表面檢查儀、LED光源機、電子天平、粘度計、膜厚計
恒流泵、采樣泵、PH計、水分計、地震測試儀、脫泡攪拌機、壓力傳感器、氣體檢測儀
接近開關(guān)、拉拔機、異音檢測儀、應(yīng)變測試儀等
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。