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目錄:沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
  • GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
  • GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 沈陽(yáng)市
屬性

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更新時(shí)間:2022-09-16 13:58:48瀏覽次數(shù):1205評(píng)價(jià)

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產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1-5萬(wàn)
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),地礦,能源,電子
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶,旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理(直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng),使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過(guò)程。屬于物理 氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種。)設(shè)計(jì)而成的簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶,旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。該設(shè)備體積小,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,操作簡(jiǎn)單,尤其適合實(shí)驗(yàn)室使用。1、設(shè)有真空表、濺射電流表,可實(shí)時(shí)監(jiān)控工作狀態(tài)。
2、通過(guò)調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體,以獲得良好鍍膜效果。
3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計(jì),可保證長(zhǎng)期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。
4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
5、根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。
6、已通過(guò)CE認(rèn)證。

產(chǎn)品名稱(chēng)GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
產(chǎn)品型號(hào)
GSL-1100X-SPC-16-3
安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:不需要
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)
4、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×700mm,,承重50kg以上
5、通風(fēng)裝置:不需要
主要參數(shù)
1、靶:?45mm
2、真空室:?160mm×120mm
3、真空度上限:≤4×10-2mbar
4、靶位:3個(gè)
5、電流上限:50mA
6、可設(shè)定時(shí)間上限:900s
7、微型真空氣閥:連接?3mm軟管
8、電壓上限:1600V  DC
9、機(jī)械泵:2L/s
產(chǎn)品規(guī)格

尺寸:400mm×300mm×400mm

重量:30kg

標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材1個(gè)
2、銅靶材1個(gè)
3、鋁靶材1個(gè)
4、進(jìn)氣針閥1個(gè)
5、保險(xiǎn)絲2個(gè)
可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材



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