VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、...VTC-600GD高真空磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià):面議
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼...VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜...VTC-600G高真空磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄...VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜...GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)...3靶等離子濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),控制面板采用觸摸屏模式,基片極限尺寸為2″,放置樣品的直徑為Ø50...GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀,可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜,樣品直徑可達(dá)50mm,鍍膜厚度可達(dá)300?...GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)...濺射蒸發(fā)一體機(jī) 參考價(jià):面議
VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價(jià):面議
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化...VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 參考價(jià):面議
產(chǎn)品簡介:VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個(gè)2英寸水冷靶頭(另有1英寸靶頭可選)和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。水冷靶頭使鍍膜后...磁控濺射卷繞鍍膜機(jī) 參考價(jià):面議
產(chǎn)品簡介:磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù),配備直流、...VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng) 參考價(jià):面議
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作,用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...小型粉末PVD包覆系統(tǒng) 參考價(jià):面議
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng),主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾,通過濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成...不銹鋼彎頭 參考價(jià):面議
不銹鋼彎頭共2個(gè)接口,兩接口為90°垂直且共面分布,主要用于連接真空腔室與相關(guān)配件。GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜(如金、鉑、銦、銀等)而設(shè)計(jì),Z大放置樣品尺寸直徑為40mm,膜厚可達(dá)300Å,...四通閥 參考價(jià):面議
四通閥包含3個(gè)接口、1個(gè)閥門,呈垂直且共面分布,其中2個(gè)KF40接口、1個(gè)KF25接口(可根據(jù)用戶要求改制),主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規(guī)管,如磁控濺射...密封裝置 參考價(jià):面議
密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件,安裝孔徑為19.2mm。加熱臺(tái) 參考價(jià):面議
加熱臺(tái)主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺(tái)的加熱。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)