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浙江 殺菌劑加藥裝置

在金屬與金屬之間連接的縫隙處，水垢及微生物泥垢、泥沙等沉積物下的金屬表面，由于水的對(duì)流不暢使氧貧化，也會(huì)造成類似的腐蝕。特別是水垢等沉積物下的腐蝕，由于腐蝕產(chǎn)物被沉積物覆蓋住，循環(huán)水顯得清澈透明，給人以金屬未遭到腐蝕的假象。當(dāng)腐蝕嚴(yán)重到一定程度時(shí)，腐蝕產(chǎn)物連同污垢一起脫落，堵住系統(tǒng)管徑較細(xì)的部位。此時(shí)再想采取水處理措施已太晚，因?yàn)槟承└g嚴(yán)重的部位金屬本體層已很薄，若用化學(xué)清洗或其他方法去除污垢后很可能造成系統(tǒng)漏水。由于腐蝕產(chǎn)物的阻擋，水中的溶解氧到達(dá)這個(gè)腐蝕點(diǎn)的速度減慢，形成腐蝕點(diǎn)四周的氧濃度大于腐蝕點(diǎn)的氧濃度，這樣，腐蝕點(diǎn)的四周便成為陰極，腐蝕點(diǎn)本身成為陽極，腐蝕繼續(xù)進(jìn)行（此即為氧濃差梯度腐蝕）。

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或者通過對(duì)現(xiàn)場(chǎng)的排污量和補(bǔ)水量的計(jì)量，按一定的比例關(guān)系來進(jìn)行藥劑的投加。由于系統(tǒng)容積很大，分析數(shù)據(jù)的滯后性、分析頻率的有限性以及系統(tǒng)存在泄漏等問題，要將水穩(wěn)劑的濃度穩(wěn)定控制在工業(yè)指標(biāo)范圍內(nèi)，還存在著一定的困難。針對(duì)以上問題和用戶要求，我們公司設(shè)計(jì)了利用熒光示蹤技術(shù)投加水處理劑方案，它采用*示蹤技術(shù)進(jìn)行自動(dòng)加藥。當(dāng)您使用該裝置時(shí)，只要把我們生產(chǎn)的示蹤劑加入到貴廠現(xiàn)場(chǎng)使用的水穩(wěn)藥劑中去，您的藥劑成了示蹤型水處理藥劑。操作時(shí)只需將循環(huán)水的回水引入控制儀的采樣水進(jìn)口，此時(shí)水中的藥劑有效成份隨時(shí)被熒光示蹤儀所監(jiān)測(cè)，同時(shí)在儀表顯示屏上顯示，并得到有效的控制。