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PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機特點：

1. 桌面型，性能穩(wěn)定、操作簡便、使用成本極低、易于維護(hù)，高性價比。

2.小身材，有效處理面積大，可以輕松處理8寸硅片去膠等應(yīng)用，最大可以處理203mm*203mm樣品。

3.采用氣浴電極，清洗效率高。

4.靈活的電極配置方案，最多可以處理2片8寸硅片

5.對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和表面改性。

PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機參數(shù)：

1.       真空腔規(guī)格: 材質(zhì)6061-T6鋁合金 240mm*300mm*200mm

2.       電極：平板氣浴電極，材質(zhì)6061-T6鋁合金

3.       電極尺寸：205mm *205mm

4.       頻率：13.56MHz (可選配40KHz射頻等離子源)

5.       功率：0-500W連續(xù)可調(diào)，精度1W,可在設(shè)備運行中隨時調(diào)整參數(shù)

6.       氣體控制：針式氣體流量閥， 60-600ml   2路氣體

7.       真空計：電偶式真空計，精度：0.01mTor

8.       控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏，全手動控制和全自動控制兩種控制方式

        控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)

應(yīng)用領(lǐng)域：