2011年10月12日，第八屆全國顆粒測試學術會議暨中國粉體工業(yè)發(fā)展年會在四川成都召開。大會開幕式由中國顆粒學會顆粒測試專業(yè)委員會主任、北京粉體技術協(xié)會理事長胡榮澤教授主持，會議主要對顆粒測試的研究成果、顆粒測試設備發(fā)展的動態(tài)進行了深入的討論。

歐美克研發(fā)部系統(tǒng)工程師陳進博士做了題為“激光粒度儀測量窗口全反射現(xiàn)象對粒度測量的影響”學術報告，報告闡述了激光粒度儀測量窗口的全反射對粒度測量結果的影響。結論是：在顆粒測試時，受全反射影響的粒度范圍在0.1~1.0微米之間。而在儀器光路的設計階段如能采取措施減少或消除全反射現(xiàn)象的影響，則儀器在上述范圍的測量精度可顯著改善。這一理論，引發(fā)了會議現(xiàn)場專家、學者的興趣，爭相咨詢該理論在實際應用過程中的技術性問題。陳博士都一一悉心回答。深入的理論研究和積極學術交流一定會給歐美克儀器的發(fā)展帶來更深刻的影響。

另外，在同期舉辦的的中國粉體工業(yè)發(fā)展年會上，歐美克激光粒度儀易賽20獲得由中國粉體網(wǎng)和北京粉體技術協(xié)會共同頒發(fā)的“2011-2012年度產(chǎn)品”獎，這是該產(chǎn)品問世以來第5次獲得全國性媒體或者政府機構授予的獎勵。

                           顆粒測試會議現(xiàn)場

                                   歐美克公司陳進博士做學術報告