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德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
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紫外掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng)

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號NXQ4000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地香港特別行政區(qū)

更新時間:2019-01-18 14:38:03瀏覽次數(shù):1534次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口
美國NXQ以的性能,經(jīng)濟(jì)的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實驗室,研發(fā)中心。

 

美國NXQ以的性能,經(jīng)濟(jì)的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實驗室,研發(fā)中心。

 

NXQ4000系列半自動掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了獨立的模塊化設(shè)計,精準(zhǔn)控制對準(zhǔn)和曝光等特點,自動程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。

該系統(tǒng)特點:

  • 鍥型誤差補償系統(tǒng)----*的WEC設(shè)計

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準(zhǔn)控制

  • 視像分辨技術(shù)------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對準(zhǔn)控制-----可選配IR或OBS雙面對準(zhǔn)

 

使用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)

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