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管式爐的選擇

閱讀:439        發(fā)布時間:2023-2-20
1、根據(jù)溫度選擇管式爐
A、選擇工作溫度時,請注意儀器所能保持的最高溫度(<1小時)和儀器能連續(xù)工作的溫度(安全、連續(xù)使用的溫度)。
例如:科晶GSL-1700X管式爐
最高加熱溫度1700℃,連續(xù)工作溫度1600℃,如有不清楚的地方,請聯(lián)系客服
B、儀器使用的加熱元件限制了加熱爐的最大工作溫度,目前我公司加熱元件可分為四類:
1250 ~ 1250℃采用電阻絲加熱元件或紅外燈管加熱元件,最高加熱溫度1200℃,長時間使用1100℃,采用K型熱電偶測溫(如果客戶需要也可更換為S熱偶)。
例如:科晶OTF-1200X-S
21300 ~ 1600℃ 采用碳化硅加熱元件,采用S型熱電偶測溫。                        
(31600 ~ 1800℃ 采用MoSi2加熱元件(禁止長時間在800℃以下加熱),采用B型熱電偶測溫。                          
2、根據(jù)樣品大小選擇坩堝→爐管管徑→管式爐
A、坩堝選擇(嚴禁不用坩堝直接將樣品放入常規(guī)爐管)
 a.石英坩堝:1200℃使用石英管,熱處理溫度超過600℃時,請不要用氧化鋁坩堝。
 b.氧化鋁坩堝1800℃使用剛玉管,熱處理溫度超過900℃時,請不要用莫來石坩堝。
 c.石墨坩堝 2300
例如:
1.需要對粉末進行900℃熱處理,選擇石英坩堝裝載樣品。
2.需要將合金在1600℃熔化,選擇氧化鋁坩堝。
B、管徑的選擇
1)選擇好坩堝后,根據(jù)坩堝裝載樣品后的體積選擇合適的爐管管徑(一般買爐子會標配有加熱爐管)。
 a.石英管 ≤1200℃ (真空環(huán)境下最高1000℃)
例如:各種放樣品的情況   



   名稱

     型號

               管徑

科晶OTF系列

OTF-1200X-S

Φ25、Φ50

OTF-1200X

Φ50、Φ60、Φ70、Φ80、Φ100、Φ130

科晶GSL系列

GSL-1100X-S

Φ20、Φ50

GSL-1100X-6-S

Φ152

GSL-1100X-8.5-S

Φ216

 b.剛玉管  ≤1800℃  (剛玉管不建議真空環(huán)境下使用)


        型號

           管徑

科晶GSL系列

GSL-1400X

Φ60、Φ80

GSL-1500X

Φ80

GSL-1600X

Φ60、Φ80

GSL-1700X

Φ60

GSL-1750X

Φ60

GSL-1800X

Φ60


 C科晶管式爐管徑與坩堝尺寸估算表
3、根據(jù)溫區(qū)選擇管式爐
管式爐溫區(qū)的作用
根據(jù)實驗要求選擇單溫區(qū)管式加熱爐和多溫區(qū)管式加熱爐,多溫區(qū)較單溫區(qū)設(shè)有多個熱電偶,n溫區(qū)加熱爐恒溫區(qū)比(n-1)溫區(qū)加熱爐的恒溫區(qū)要長,部分儀器尺寸變大。
1)恒溫區(qū)的作用
恒溫區(qū)一般指加熱爐內(nèi)的某一溫度相同的區(qū)間,樣品放置在這一區(qū)間內(nèi),樣品各處受到的溫度會基本一致。(中心區(qū)域溫度差小于±1℃
2)恒溫區(qū)不同帶來的變化
恒溫區(qū)的增加或減少可能會改變儀器的尺寸,儀器整體會變大或變小。
3)恒溫區(qū)選擇
選擇合適的恒溫區(qū),一定要先根據(jù)樣品的尺寸或?qū)嶒炓蟮氖軣狍w積來選擇。
A、實驗樣品尺寸大于儀器恒溫區(qū),需要選擇多溫區(qū)來增加恒溫區(qū)的長度。
B、根據(jù)實驗要求需要多個溫度梯度時,這就需要多溫區(qū)來實現(xiàn)。
例如:通過物理沉積方式在基片上生長二維材料,原料高溫揮發(fā)后,利用載氣向低壓端移動,一定溫度下載基片上生長(相鄰兩個溫區(qū)最大溫差300℃
請注意加熱爐加熱區(qū)分為總加熱區(qū)長度(加熱源能覆蓋的區(qū)域)和恒溫區(qū)長度。恒溫區(qū)總是小于加熱區(qū)。請選擇一個恒溫區(qū)尺寸超過您樣品的加熱爐。
4、根據(jù)功能選擇加熱爐
 
 管式爐為基礎(chǔ)加熱系統(tǒng),您可以根據(jù)不同的需求選擇成套科晶系統(tǒng),如CVD、 PECVD、HPCVD、ALD、石墨烯和二維材料生長系統(tǒng)等。
例如:
1)生長石墨烯/PECVD系統(tǒng),整個系統(tǒng)包括加熱爐系統(tǒng)、射頻電源、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、通風系統(tǒng)、氫氣報警系統(tǒng)。
2立式管式爐:加熱管垂直放置,以懸吊樣品的方式,為樣品提供淬火。
3RTP(快速熱處理加熱爐):可以對樣品進行快速加熱和快速冷卻。
例如:
a.OTF-1200X-4-RTP快速退火管式爐,最快50/s升溫速度,紅外燈管加熱。
 b.OTF-1200X-50-S 迷你型快速加熱冷卻爐,加熱爐加熱到某一溫度后,滑至樣品所在區(qū)域,可以提高升溫速度,熱處理結(jié)束,將爐體移開,使樣品所在區(qū)域暴露在爐膛外快速冷卻。
4高溫高壓爐/真空爐:特殊設(shè)計的鎳鉻合金和不銹鋼爐管,對樣品進行高溫高壓和真空處理。
5)旋轉(zhuǎn)管式爐:爐管旋轉(zhuǎn)式結(jié)構(gòu)可以更均勻的熱處理粉末,同時也可以達到粉末均勻包覆的效果。
6氫氣爐/氣氛爐:氫氣處理或其他危險氣體的實驗,請和銷售技術(shù)人員提前說明。不建議使用普通管式爐做危險實驗。
5、選擇有相關(guān)認證的管式爐
·合肥科晶所有爐子的電子元器件均采用UL認證器件。
·合肥科晶保證加熱爐可單臺可通過認證(可能會產(chǎn)生部分認證費用,具體請咨詢銷售)。



6、選擇合適的真空泵:本公司多種真空泵可選



7、定制爐:定制爐由于其特殊性請和銷售部直接溝通



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