工業(yè)顯微鏡 LV150N/LV150NL/LV150NA

新的光學(xué)系統(tǒng)令 ECLIPSE煥發(fā)新風(fēng)采

ECLIPSE 顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造，可滿(mǎn)足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經(jīng)過(guò)不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿(mǎn)足多種觀察需求。
用戶(hù)可選擇使用電動(dòng)和手動(dòng)操控模式以及反射照明模式和反射／透射組合照明模式以滿(mǎn)足任何應(yīng)用需求。

CFI60-2 經(jīng)過(guò)改進(jìn)的光學(xué)性能
以*的高數(shù)值孔徑和長(zhǎng)工作距離設(shè)計(jì)理念而著稱(chēng)的尼康 CFI60 光學(xué)系統(tǒng)

經(jīng)過(guò)進(jìn)一步改進(jìn)，具有長(zhǎng)工作距離、色差校正性能和更輕的重量。

輕松的操作 與數(shù)碼相機(jī)集成

現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來(lái)檢測(cè)包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對(duì)顯微鏡進(jìn)行電動(dòng)操作，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝

觀察方法

可支持多種觀察方法：明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測(cè)量等。