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貨物所在地:上海上海
更新時間:2024-08-03 21:00:06
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納米劃痕測試儀(10uN - 1N)
可以測試薄膜和基底的臨界附著力,劃痕深度、劃痕寬度、凸起高度以及材料的粘彈性恢復(fù)等力學(xué)性能??梢赃M(jìn)行微拉伸實(shí)驗(yàn)??蓪?shí)時記錄摩擦力及摩擦系數(shù)的變化,以及用于納米磨損測試。
瑞士CSM的納米劃痕儀主要用于界定膜基結(jié)合強(qiáng)度與薄膜抗劃痕強(qiáng)度,適用的薄膜厚度一般低于800納米。納米劃痕儀可以用于多種薄膜材料的檢測分析,例如單層或多層PVD、CVD、PECVD薄膜,感光薄膜,彩繪釉漆,光學(xué)薄膜,微電子鍍膜,保護(hù)性薄膜,裝飾性涂層等等。基體可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料,包括金屬、合金、半導(dǎo)體、玻璃、礦物、以及有機(jī)材料等。
技術(shù)參數(shù):
劃痕測試單元:
劃痕正向力載荷 ?10uN-1N
zui大摩擦力 1N(或200mN)
摩擦力分辨率 6uN(或300nN)
zui大劃痕深度 ?200 um
zui大劃痕長度 ?120mm
劃痕速度 0.4-600mm/min,連續(xù)可調(diào)
高質(zhì)量金相顯微鏡系統(tǒng) :
配有高分辨率的彩色CCD和與之匹配的圖形采集系統(tǒng)
配有5X,20X、和100倍的物鏡鏡頭,zui大屏幕上放大倍率4000倍
在不拆卸、更換鏡頭的情況下,通過轉(zhuǎn)塔可以在不同倍率鏡頭間切換使用
采用LED光源系統(tǒng)
軟件控制光源系統(tǒng)的亮度和聚焦
點(diǎn)擊鼠標(biāo)即可實(shí)時存取試樣表面的光學(xué)圖像
全自動連續(xù)景深成像(Multifocus)
全景成像模式(Panorama模式,對劃痕)
雙顯示器,一個用于測試模塊的軟件控制,一個用于光學(xué)圖像采集、觀察
配有成像分析軟件:具有長度標(biāo)尺,可以測試或顯示光學(xué)圖像中任意兩點(diǎn)坐標(biāo),水平距離、垂直距離、直線距離
XYZ三方向全自動試樣臺(以CPX納米力學(xué)平臺為例):
X方向移動范圍: ?120mm
Y方向移動范圍: ?70mm
有效工作面積: ?70mmX20mm
定位分辨率: ? 0.1um
定位精度: ? 1um
Z方向自動移動范圍: 30mm
分辨率:10nm
XYZ三方向移動控制:鼠標(biāo)控制、鍵盤控制及操縱桿控制
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)