林賽斯(上海)科學(xué)儀器有限公司
n型Sb合金SnSe熱電多晶中納米結(jié)構(gòu)和導(dǎo)熱系數(shù)降低的證據(jù)
檢測樣品:n型Sb合金SnSe
檢測項(xiàng)目:納米結(jié)構(gòu) 導(dǎo)熱系數(shù)
方案概述:SnSe的熱導(dǎo)率通過三種獨(dú)立的技術(shù)進(jìn)行表征,以確保室溫下的Sn0.8Sb0.2Seκ~0.6W/mK。使用LinseisLFA1000儀器測量了x=0.2合金在300K≤T≤800K溫度范圍內(nèi)的熱擴(kuò)散率(α)。
【引言】
高效清潔的能源生產(chǎn)是當(dāng)前最大的挑戰(zhàn)之一。能源回收可以而且應(yīng)該在這方面發(fā)揮重要作用。分布式高質(zhì)量中溫源(即400℃以上)產(chǎn)生的余熱是一種寶貴的資源,應(yīng)該加以回收。熱電發(fā)電機(jī)(TEG)將廢熱轉(zhuǎn)化為有用的電能,對(duì)這一點(diǎn)至關(guān)重要。TEG有許多優(yōu)點(diǎn):它們操作簡單,安靜,健壯,具有可擴(kuò)展的體系結(jié)構(gòu)。然而,目前的材料效率低下,因此三甘醇還不具有成本效益。TEG利用Seebeck效應(yīng)將溫度梯度轉(zhuǎn)換為電壓,同時(shí)使用p型和n型半導(dǎo)體串聯(lián)和并聯(lián)熱連接。
【成果介紹】
SnSe是一種具有吸引力的熱電材料,具有高的正Seebeck系數(shù)。在這里,我們描述了通過直接電弧熔煉技術(shù)制備的Sn1–xSbxSe金屬間化合物合金的合成、結(jié)構(gòu)、顯微和熱電特性。合成了Sb摻雜的硒化錫納米顆粒。中子衍射研究表明,Sb位于Sn亞晶格中,濃度高達(dá)30%,并產(chǎn)生大量Sn空位,而層間距的增加有利于納米結(jié)構(gòu)的形成。這種材料是納米結(jié)構(gòu),既有平面外的納米尺度層,也有平面內(nèi)的納米尺度層∼這些層的5 nm起伏。這種納米結(jié)構(gòu),加上Sn空位數(shù)量的增加,使得熱電材料的熱導(dǎo)率降低。根據(jù)高分辨透射電子顯微鏡觀察到的納米結(jié)構(gòu),從低溫、熱導(dǎo)率和比熱的角度估計(jì)聲子平均自由程約為2nm。SnSe的熱導(dǎo)率通過三種獨(dú)立的技術(shù)進(jìn)行表征,以確保室溫下的Sn0.8Sb0.2Seκ∼ 0.6W /mK。使用Linseis LFA 1000儀器測量了x=0.2合金在300K≤ T≤ 800 K溫度范圍內(nèi)的熱擴(kuò)散率(α)。新制備的摻銻化合物表現(xiàn)出電荷載流子類型的突然變化,導(dǎo)致較大的負(fù)Seebeck系數(shù),盡管電弧熔融合成的顆粒對(duì)于熱電應(yīng)用仍然具有太大的電阻。冷壓球團(tuán)在室溫下演變?yōu)閜型,但在500K左右可重復(fù)地轉(zhuǎn)變?yōu)閚型,電導(dǎo)率和觀察到的最大優(yōu)值ZT增加∼ 908 K時(shí)為0.3。
【圖文導(dǎo)讀】
圖1:(a) 生長態(tài)Sn0.8Sb0.2Se,空間群Pnma中Rietveld細(xì)化的XRD圖譜。觀察到強(qiáng)烈的擇優(yōu)取向,增強(qiáng)了[h00]反射。插圖顯示了所有Sn1–xSbxSe(x=0.1、0.2、0.3、0.4)化合物的XRD圖譜(b) Sn0.8Sb0.2Se在室溫下的中子粉末衍射(NPD)剖面的觀測(十字)、計(jì)算(實(shí)線)和差異(底部)。
圖2:隨著摻雜濃度(x=0.1,0.2,0.3,0.4)的變化,生長態(tài)Sn1–xSbxSe的晶胞參數(shù)演變(a) a參數(shù),(b)b參數(shù),(c)c參數(shù),(d)單位細(xì)胞體積。
圖3:含95%概率位移橢球的Sn0.8Sb0.2Se晶體結(jié)構(gòu)。
圖4:生長態(tài)Sn0.8Sb0.2Se的SEM圖像,顯示由血小板(垂直于[100]方向)組成的納米結(jié)構(gòu),放大倍數(shù)為(a)×16 000和(b)×10 000,顯示典型的血小板厚度在10和40 nm之間。
圖5:(a)Sn0.8Sb0.2Se的熱導(dǎo)率,通過PPMS中的四探針絕熱TTO技術(shù)、3ω-技術(shù)和熱擴(kuò)散率(激光閃光)測量,以及(b)僅通過TTO PPMS技術(shù)測量Sn1–xSbxSe(x=0,0.1,0.2,0.3,0.4)的熱導(dǎo)率,誤差條(未顯示)與面板(a)的誤差條相似。
圖6:Sn0.8Sb0.2Se(a)兩個(gè)樣品的Seebeck系數(shù)與溫度的關(guān)系,測量了幾次(b)電導(dǎo)率,(c)功率因數(shù),和(d)優(yōu)值。
【結(jié)論】
采用簡單的方法制備了一系列Sn1–xSbxSe金屬間化合物,得到了高納米結(jié)構(gòu)的樣品。中子衍射研究揭示了組成晶體結(jié)構(gòu)的層內(nèi)共價(jià)性增加(垂直于晶體學(xué)軸),而層間距離增加,有利于摻銻材料的納米結(jié)構(gòu)。大量擴(kuò)展晶界的存在對(duì)熱輸運(yùn)和電子輸運(yùn)有兩個(gè)主要影響。系列中的所有成員都觀察到了較大的電阻率值,這對(duì)熱電性能是不利的。另一方面,熱導(dǎo)率極低,遠(yuǎn)低于文獻(xiàn)報(bào)道的SnSe值。此外,Sb摻雜顯著影響了原始樣品中由正空穴演化而來的載流子的符號(hào),達(dá)到了668μvK−1在380 K時(shí),對(duì)整個(gè)系列中的電子載流子,在370 K, x=0.1時(shí)達(dá)到−306μvK−1。從頭算計(jì)算表明,Sb摻雜會(huì)導(dǎo)致Sn的缺乏,從而預(yù)測了這種行為。Sn空位處的電荷俘獲降低了Sb摻雜改變電子性質(zhì)的效率。然而,它可能有助于減少晶格熱導(dǎo)率淬滅光學(xué)聲子對(duì)點(diǎn)缺陷散射,指向一個(gè)PGEC。n型SnSe摻雜材料的描述是重要的,因?yàn)門EGs的實(shí)現(xiàn)需要兩種類型的載流子并聯(lián)的材料耦合。
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