SE200 光譜橢偏儀
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 北京燕京電子有限公司
- 品牌
- 型號(hào) SE200
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2018/5/20 15:19:23
- 訪問(wèn)次數(shù) 733
產(chǎn)品標(biāo)簽
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等離子，清洗機(jī)微小信號(hào)測(cè)量?jī)x;頻率特性分析儀;信號(hào)發(fā)生器;高速雙極型放大器;生體計(jì)測(cè)系統(tǒng);濾波器;計(jì)測(cè)系統(tǒng);LCR儀表;AE計(jì)測(cè)裝置;微小信號(hào)測(cè)量?jī)x;鎖相放大器;鎖相電壓表;超低噪聲放大器;前置放大器;隔離放大器;交流電源;變頻電源;仿真電源;功率放大器;可編程濾波器;低噪聲放大器
- 易于安裝
- 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作
- *的光學(xué)設(shè)計(jì)，以確保能發(fā)揮出*的系統(tǒng)性能
- 能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/li>
- 高功率的DUV－VIS光源，能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
- 基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng)，以確?？焖贉y(cè)量
- zui多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率
- 能夠用于實(shí)時(shí)或在線(xiàn)的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
- 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫(kù)
- 對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品，用戶(hù)可以利用*的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫(kù)、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型（EMA）測(cè)量分析
- 三種不同水平的用戶(hù)控制模式：專(zhuān)家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級(jí)用戶(hù)模式
- 靈活的專(zhuān)家模式可用于各種*的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試
- 健全的一鍵按鈕（Turn－key）對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案
- 用戶(hù)可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來(lái)配置參數(shù)的測(cè)量
- 系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能
- 無(wú)需外部的光學(xué)器件，系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中，直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行精確的校準(zhǔn)
- 可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度
- 能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類(lèi)型的基片
- 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長(zhǎng)擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求
- 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶(hù)數(shù)據(jù)管理界面。
- 可用于微觀區(qū)域選項(xiàng)的數(shù)字成像工具
- 對(duì)整個(gè)小區(qū)域可進(jìn)行反射測(cè)量的整體式反射計(jì)
系統(tǒng)配置：
- 型號(hào)：SE200BA-MSP-M300
- 探測(cè)器：陣列探測(cè)器
- 光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源
- 指示角度變化：可編程設(shè)定，自動(dòng)可調(diào)
- 平臺(tái)：ρ-θ配置的自動(dòng)成像
- 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件
- 整合了SE和MSP系列的優(yōu)點(diǎn)
- 計(jì)算機(jī)：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
- 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A
- 保修：一年的整機(jī)及零備件保修
基本參數(shù)：
- 波長(zhǎng)范圍：250nm到1000 nm
- 波長(zhǎng)分辨率: 1nm
- 光斑尺寸：1mm至5mm可變
- 入射角范圍：10到90度
- 入射角變化分辨率：0.01度
- 數(shù)字成像像素：130萬(wàn)
- 有效放大倍數(shù)：1200×
- 長(zhǎng)物鏡工作距離：12mm
- MSP光速尺寸：2-500μm可調(diào)
- 樣品尺寸：zui大直徑為300mm
- 基板尺寸：zui多可至20毫米厚
- 測(cè)量厚度范圍*：0nm?10μm
- 測(cè)量時(shí)間：約1秒/位置點(diǎn)
- 精確度*：優(yōu)于0.25％
- 重復(fù)性誤差*：小于1 ?
應(yīng)用領(lǐng)域： ?
- 半導(dǎo)體制造（PR，Oxide, Nitride..）
- 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）
- 醫(yī)學(xué)，生物薄膜及材料領(lǐng)域等
- 油墨，礦物學(xué)，顏料，調(diào)色劑等
- 醫(yī)藥，中間設(shè)備
- 光學(xué)涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
- 半導(dǎo)體化合物
- 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜
- 非晶體，納米材料和結(jié)晶硅
產(chǎn)品可選項(xiàng)：
- 用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量
- 用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑
- 高分辨率數(shù)字?jǐn)z像頭
- 用于MSP的超長(zhǎng)物鏡
- X－Y成像平臺(tái)（X-Y模式，取代ρ-θ模式）
- 加熱/致冷平臺(tái)
- 樣品垂直安裝角度計(jì)
- 波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍
- 掃描單色儀的配置
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