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GNP CLEANER-428L CMP后清洗機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

適用晶圓尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:獨立配置4個清洗工位用DIW噴霧預(yù)清洗兩個雙面滾刷清洗用氮氣吹干旋轉(zhuǎn)漂洗

清潔器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

電刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗輥刷工位

化學(xué):2個化學(xué)泵(每個刷室1),NH4OH(< 0.1wt%)DIW

刷型:雙面PVA刷刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-1.5mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的2%

范圍30 ~ 400rpm

化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程< 5L/min

旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/DIW沖洗/ N2吹掃/強(qiáng)掃

控制工藝:噴淋清洗/雙面刷清洗/旋漂干洗/濕洗/干洗

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控,程序可編程,計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比




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