日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 特點(diǎn)介紹

該臺(tái)式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對(duì)非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時(shí)。

精致、緊湊的設(shè)計(jì)和

帶觸摸屏的簡(jiǎn)單用戶界面

確保舒適的操作性。

無(wú)需惰性氣體

一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作

將條件保存到庫(kù)（最多 10 個(gè)）

最多可同時(shí)處理 7 個(gè)樣品

減少低電流對(duì)樣品的損壞

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主體+泵+1個(gè)目標(biāo)

即可立即使用

日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 規(guī)格參數(shù)

外形尺寸350×210mm（高230mm） 

體重10公斤 

電源110V±10%，50/60Hz 

離子電流1~10mA（1mA/步） 

濺射時(shí)間1 至 600 秒（1 秒/步）*約15nm成型，10mA，100秒 

靶材金、銀、鉑（50mmφ/99.99%） 

腔室尺寸140mmφ(H100mm) 

兼容的樣本量50mmφ(H30mm) 

該臺(tái)式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對(duì)非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時(shí)。

精致、緊湊的設(shè)計(jì)和

帶觸摸屏的簡(jiǎn)單用戶界面

確保舒適的操作性。

無(wú)需惰性氣體

一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作

將條件保存到庫(kù)（最多 10 個(gè)）

最多可同時(shí)處理 7 個(gè)樣品

減少低電流對(duì)樣品的損壞

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主體+泵+1個(gè)目標(biāo)

即可立即使用