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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)測量儀>橢偏儀>Dymek岱美儀器 全光譜橢圓偏光測厚儀SE950

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Dymek岱美儀器 全光譜橢圓偏光測厚儀SE950

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗的高科技設(shè)備分銷商,主要為數(shù)據(jù)存儲、半導(dǎo)體、光通訊、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系。自1989年創(chuàng)立至今,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區(qū)。


岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機、涂膠顯影機、硅片清洗機、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學(xué)三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統(tǒng)、應(yīng)力檢測儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機構(gòu)長期發(fā)展的目標。




膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機,EVG光刻機,HERZ隔震臺,Microsense電容式位移傳感器

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,制藥,綜合

優(yōu)勢:

1、微光斑功能: 標準配置微光斑 光斑尺寸80x120微米。特殊光學(xué)設(shè)計與研磨級高精度Z軸搭配可自動移除透明襯底背面反射.對焦過程中可自動判定膜層的對焦位置,并通過光學(xué)狹縫克服透明襯底背后反射

2、采用訊號自動對焦,量測訊號與對焦訊號為同一訊號 有效避免量測的位置誤差。

3、檢偏器自動追蹤:大幅提升橢偏儀量測精度,特別有利于極薄膜層的材料分析以及ψ與Δ之精度

4、電動自動可調(diào)變衰減片:可自動或手動調(diào)整不同樣品訊號飽和程度(100%~0.1%),并可分段設(shè)置UV訊號與可見光訊號強度以便獲取最佳量測訊號

5、軟件自動分析擬合:提供膜厚 折射率預(yù)分析功能,未知材料的數(shù)據(jù)庫比對能力,軟件自動分析簡化操作,克服橢偏儀一向由專業(yè)人士操作帶來的量測困難。

6、遠程遙控:突破橢偏儀需到場服務(wù)與培訓(xùn)之限制,大幅提升售后服務(wù)之效率

7、高質(zhì)量DUV光譜儀: 光譜范圍220nm-1100nm,(可選配至1700nm)分辨率<1nm 自帶半導(dǎo)體制冷,高動態(tài)比,訊噪比盡可能的減小噪聲影響

8、自動生成2D或3D Mapping 圖譜并自動數(shù)據(jù)分析,光譜自動保存,數(shù)據(jù)可匯總及上傳

9、以recipe設(shè)置 測試時間大幅縮短至1-3秒,提高測試效率。

10、設(shè)計上 采用抗紫外鈍化光纖雙光纖結(jié)構(gòu),先進的斷開功能,大幅提升光譜穩(wěn)定性和長期使用的可靠性。

11、高穩(wěn)定性 標準片 膜厚重復(fù)性精度<0.5A,折射率重復(fù)精度<0.0005

12、膜厚測試范圍1nm-20微米 可針對透明或不透明襯底測試

13、免費建模


規(guī)格:

全光譜橢圓偏光測厚儀SE950


光學(xué)原理:

光波從接觸到光學(xué)組件表面,到離開光學(xué)組件表面的短暫時間里,其偏極狀態(tài)(polarization state)一定會改變。橢圓偏光儀,既是一種用來量測光波穿透光學(xué)組件,或從光學(xué)組件表面反射前后偏極狀態(tài)改變情形的儀器。由于此種偏極狀態(tài)的改變是光波與光學(xué)組件材料產(chǎn)生交互作用的結(jié)果,因此可由偏極狀態(tài)的改變情形,反推得到光學(xué)組件表面的物理特性。這里所謂的光學(xué)組件表面有可能是光學(xué)組件的表面,也有可能是單層膜或多層膜的堆棧,也可能是光學(xué)組件表面的污染層。
光藉由非零度入射角至樣品表面而反射, 因為樣品的厚度及對光的反應(yīng)(吸收或透明…)而產(chǎn)生極化狀態(tài)的改變(產(chǎn)生相位及振幅的改變),此量測方式我們稱為橢圓儀量測。量測時對于每個波長,我們得到兩個獨立的參數(shù)Ψ and △

全光譜橢圓偏光測厚儀SE950





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