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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>等離子清洗機> GL Plasma等離子體清洗設備

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GL Plasma等離子體清洗設備

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青島天仁微納科技有限責任公司成立于2015年,是引新的納米壓印設備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務涵蓋納米壓印相關的設備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務。我們致力于拓展納米壓印技術在創(chuàng)新產(chǎn)品領域的應用,例如發(fā)光二極管(LEDs)、微納機電系統(tǒng)(MEMs/NEMs)、虛擬現(xiàn)實和增強現(xiàn)實光波導(AR Waveguides)、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

微納加工設備,配套材料,配套產(chǎn)品,相關領域的技術咨詢服務

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 綜合

GL Plasma等離子體清洗設備主要應用于活化,提升附著力和清洗等工藝。


GL Plasma等離子體清洗設備相關參數(shù)

●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)

●適用于清洗納米壓印基底表面

●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性

●適用于增加工作模具基材與模具復制材料粘附性





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