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DR-M4 ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀

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ATAGO(愛拓)源自日本,成立于1940年,總部設(shè)在日本東京,80年來一直致力于研究與開發(fā)多樣化、應(yīng)用廣泛的光電檢測(cè)儀器。其主要產(chǎn)品為折光儀、旋光儀及基于折射原理測(cè)定各種物質(zhì)濃度的衍生產(chǎn)品濃度計(jì),多年來已為各行各業(yè)提供了多樣化的產(chǎn)品濃度檢測(cè)方案。


主要銷售:折射儀、折光儀、旋光儀、糖度計(jì)、濃度計(jì)、鹽度計(jì)、粘度計(jì)、食用油品檢測(cè)儀、二氧化碳糖度檢測(cè)儀等多種物質(zhì)的濃度檢測(cè)儀。


ATAGO(愛拓)產(chǎn)品的應(yīng)用涵蓋從食品飲料,果蔬種植,制糖行業(yè),日用化工,生物制藥,金屬加工,工業(yè)制造到石油化工等多種領(lǐng)域。品質(zhì)可靠,耐用性好,獲得來自150多個(gè)國(guó)家和地區(qū)客戶的信任與肯定!








自動(dòng)旋光儀,阿貝折光儀,全自動(dòng)折光儀,手持式糖度計(jì),手持式折射計(jì),折射計(jì),糖度計(jì),旋光儀,鹽度計(jì),在線折光儀

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類 臺(tái)式
價(jià)格區(qū)間 面議 數(shù)顯功能
溫控功能 無(wú) 應(yīng)用領(lǐng)域 食品,化工,綜合

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。


在平板顯示行業(yè):主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中,光刻膠涂覆于晶體薄膜表面,經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上,形成與掩膜版對(duì)應(yīng)的幾何圖形。


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PCB行業(yè):主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上,進(jìn)行曝光顯影;濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上,待其干燥后進(jìn)行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢(shì),總體來說濕膜光刻膠分辨率高于干膜,價(jià)格更低廉,正在對(duì)干膜光刻膠的部分市場(chǎng)進(jìn)行替代。

在半導(dǎo)體集成電路制造行業(yè):主要使用g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。在大規(guī)模集成電路的制造過程中,一般要對(duì)硅片進(jìn)行超過十次光刻。在每次的光刻和刻蝕工藝中,光刻膠都要通過預(yù)烘、涂膠、前烘、對(duì)準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié),將光罩(掩膜版)上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。


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光刻膠是集成電路制造的重要材料:光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%,并且耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的40%~50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

按顯示效果分類,光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩(掩膜版)相反;正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,區(qū)別在于主要原材料不同。
按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類;光刻膠可以分為光聚合型,光分解型,光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。光聚合型光刻膠采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,最后生成聚合物。

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光分解型光刻膠,采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性光刻膠;

在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外(DUV)光源以后,化學(xué)放大(CAR)技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,樹脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯?;瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑(PAG)作為光引發(fā)劑。


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按照曝光波長(zhǎng)分類,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同。通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,波長(zhǎng)越短,加工分辨率越佳。


可測(cè)量不同波長(zhǎng)下的折射率與阿貝數(shù)值,數(shù)字顯示,準(zhǔn)確清晰,活動(dòng)光源,可定做濾光片,對(duì)薄膜的XYZ軸有特殊方法檢測(cè)!


ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4(最大1,100nm,可在波長(zhǎng)4501,100nm范圍內(nèi),使用不同的波長(zhǎng)測(cè)量折射率(nD)和阿貝數(shù)值。測(cè)量結(jié)果通過調(diào)整分界線至十字交叉點(diǎn)確定,測(cè)量結(jié)果在LCD顯示屏以數(shù)字形式顯示,與傳統(tǒng)型阿貝折射儀相比,讀數(shù)更快速更清晰。尤其適合高精度測(cè)量眼鏡片等聚酯材質(zhì)的折射率。


ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀,廣泛用于測(cè)量:濃縮果汁、香精香料、工業(yè)溶液、化工材料、光學(xué)玻璃、塑料薄膜、各種新型材料及某些固體物質(zhì)的折射率(nD)Brix值。





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