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6200NT納米壓印 EVG6200NT SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 6200NT納米壓印
- 產(chǎn)地 奧地利
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/9/25 14:25:43
- 訪問次數(shù) 1203
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應用領域 | 電子,航天,電氣 |
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EVG®6200 NT
SmartNIL UV Nanoimprint Lithography System
EVG®6200NT SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)
具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng),采用EVG專有的SmartNIL®技術(shù),大可達150 mm
技術(shù)數(shù)據(jù)
這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以小的占地面積提供了新的掩模對準技術(shù)。操作員友好型軟件,短的掩模和工具更換時間以及高效的服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對齊和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
SmartNIL是行業(yè)的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。 SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。 EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印技術(shù)的長期前景,納米壓印技術(shù)是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,高產(chǎn)量的替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過程和模板
特征
頂側(cè)和底側(cè)對齊能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和配方控制的曝光間隙
支持新的UV-LED技術(shù)
小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和配方,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和轉(zhuǎn)換重組
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能:鍵對齊、紅外對準、
智能NIL®
µ接觸印刷
EVG6200NT技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
標準光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL®:大150毫米
解析度≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程
柔軟的UV-NIL和SmartNIL®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對準
軟NIL:≤±0.5 µm
SmartNIL®:≤±3 µm
自動分離
柔紫外線NIL:不支持
SmartNIL®:受支持
工作印章制作
柔軟的UV-NIL:外部
SmartNIL®:受支持