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Talos F200X STEM透射電鏡

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北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司成立于2003年,是一家材料分析數(shù)字化解決方案服務(wù)商。旗下?lián)碛锌茖W(xué)儀器、智慧實(shí)驗(yàn)室、第三方檢測(cè)、技術(shù)服務(wù)等業(yè)務(wù)板塊。歐波同堅(jiān)持“讓實(shí)驗(yàn)更簡(jiǎn)單”的發(fā)展主線,充分掌握計(jì)算機(jī)視覺和圖像識(shí)別技術(shù),實(shí)現(xiàn)AI技術(shù)和工業(yè)分析技術(shù)的跨界融合,幫助中國企業(yè)在競(jìng)爭(zhēng)中取得成功。為世界材料分析貢獻(xiàn)中國力量!


北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司(OPTON)-主營進(jìn)口掃描電子顯微鏡、雙束聚焦離子束顯微鏡、賽默飛掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、聚焦離子束電鏡、賽默飛雙束電鏡、FEI掃描電鏡、FIB掃描電鏡、FIB雙束電鏡、TEM透射電鏡、球差電鏡、氬離子拋光測(cè)試及制樣設(shè)備中國區(qū)授權(quán)代理商








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應(yīng)用領(lǐng)域 化工

Thermo ScientificTM TalosTM F200X STEM透射電鏡提供快速、準(zhǔn)確的納米材料多尺度表征,配備多種創(chuàng)新功能以提高效率、精度與易用性,是學(xué)術(shù)、政府和工業(yè)等領(lǐng)域進(jìn)行高級(jí)研究與分析的理想選擇。


高分辨率成像,獲取更高質(zhì)量的數(shù)據(jù)
Talos F200X S/TEM 融合了出色的高分辨率 STEM 和 TEM 成像功能、能譜儀 (EDS) 信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分面分析的三維化學(xué)表征功能。Thermo Scientific Velox TM S/TEM 控制軟件通過智能掃描引擎、基于多個(gè) STEM 探測(cè)器的多通道合并技術(shù)以及差分相位襯度 (DPC) 成像技術(shù),顯著改善了 S/TEM 成像質(zhì)量,可以更好地分析電磁結(jié)構(gòu),并實(shí)行快速、準(zhǔn)確的 EDS 數(shù)據(jù)處理和定量分析。

X-FEG 高亮度電子槍可以在提供高達(dá)標(biāo)準(zhǔn)肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍五倍亮度的同時(shí)保持較小的會(huì)聚角。用戶可以獲取高信噪比以及 STEM、EDS 圖像分辨率和更多高分辨 TEM 應(yīng)用。X-FEG 高亮度電子槍所具有的高穩(wěn)定性及使用壽命很長(zhǎng)等特點(diǎn),使其具有更高的成像效率。


視野更大,速度更快

Talos 快速 D/TEM 成像支持高分辨率以及原位動(dòng)態(tài)成像。 Thermo Scientific Ceta 16M TM 相機(jī)的視場(chǎng)范圍更大,圖像采集分辨率可高達(dá)每秒 25 幀,同時(shí),壓電樣品臺(tái)可確保高靈敏度、無漂移成像和樣品導(dǎo)航,從而節(jié)約時(shí)間并允許用戶采集更多樣品數(shù)據(jù)。


加快納米尺度分析以更快獲取答案

Talos F200X S/TEM 采用賽默飛 Super-XTM 集成 EDS 系統(tǒng),配備四個(gè)硅漂移 X 射線探測(cè)器,具有*靈敏度,每秒可收集高達(dá) 105 幅能譜。X-TWIN 物鏡集成,大限度地提高了 X 射線收集效率,同時(shí)達(dá)到給定束流(甚至是低強(qiáng)度 EDS 信號(hào))下的理想輸出計(jì)數(shù)率。


更輕松地開展研究
Talos S/TEM 采用友好的數(shù)字用戶界面和人體工程學(xué)設(shè)計(jì),允許多名科學(xué)家訪問成像和分析工作流程。快速圖像采集與簡(jiǎn)單易用的操作平臺(tái)相結(jié)合,即使是經(jīng)驗(yàn)不足的操作者也能夠快速收集結(jié)果。人機(jī)分離的遠(yuǎn)程操作設(shè)計(jì)顯著提高了易用性、舒適性和電鏡的穩(wěn)定性。此外,為了確保維持工作效率,Talos S/TEM 配備了新型設(shè)備狀態(tài)記錄和診斷軟件,以便收集重要的儀器參數(shù),便于遠(yuǎn)程診斷和支持。


Thermo ScientificTM TalosTM F200X STEM透射電鏡參數(shù):

X-FEG 亮度       1.8 × 109 A/cm2 srad(@200 kV)
總電子束電流     > 50 nA
探針電流       1.5 nA @ 1 nm 束斑 (200 kV)
Super-X EDS 系統(tǒng)    采用對(duì)稱設(shè)計(jì)的 SDD 能譜探頭,無窗設(shè)計(jì),遮板保護(hù)
能量分辨率  ≤ 136 eV Mn-Kα @10 kcps(輸出)
快速 EDS 面分析    像素駐留時(shí)間短至 10 μs
STEM HAADF 分辨率  0.16 nm
EDX 立體角 0.9 srad
TEM 信息分辨率 0.12 nm
大衍射角度 24 ?
雙傾樣品桿的大傾斜角度 ±35° α 傾角 /±30° β 傾角
樣品臺(tái)大傾斜角度 ±90 





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