DENTON 磁控濺射系統(tǒng)Discovery ® 635/785

美國(guó)丹頓真空設(shè)備有限公司是世界真空鍍膜設(shè)備制造商，成立于1964年。丹頓是美國(guó)簽約的設(shè)備供應(yīng)商，為美國(guó)品研發(fā)和制造提供真空鍍膜設(shè)備。作為美國(guó)老牌“軍工”企業(yè)，丹頓真空以設(shè)備的實(shí)用性和可靠性見長(zhǎng)。目前，丹頓真空已為客戶設(shè)計(jì)制造了總數(shù)超過5千臺(tái)的各種規(guī)格的電阻/電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子束濺射/刻蝕和等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于科研開發(fā)、小規(guī)模制造和工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域。

丹頓真空的Discovery系列在世界許多著名的研究機(jī)構(gòu)得到廣泛的應(yīng)用，是業(yè)內(nèi)*的靈活、可靠的磁控濺射系統(tǒng)。從15年前開發(fā)以來，該系統(tǒng)已經(jīng)銷售超過100臺(tái)，在國(guó)內(nèi)銷售12臺(tái)。Discovery®系列適合于研發(fā)及小批量生產(chǎn)。系統(tǒng)采用*的共焦濺射結(jié)構(gòu)，能夠使用較小的磁控濺射靶槍在較大的面積的工件上得到較好的均勻性（例如：采用傳統(tǒng)的垂直濺射方式，為了在6英寸工件上得到±5%的均勻性，需要使用8英寸直徑靶槍，而采用共焦濺射方式，則可以采用3英寸磁控濺射靶槍，即可達(dá)到同樣的均勻性指標(biāo)）。因此在同樣的要求下，采用的靶槍及電源相對(duì)較小，所以能夠降低設(shè)備成本及運(yùn)行成本，同時(shí)，丹頓真空也提供傳統(tǒng)的垂直濺射方式系統(tǒng)。

Discovery® 系列都可以安裝多個(gè)磁控濺射靶槍，可以實(shí)現(xiàn)多種濺射模式，包括直流/射頻/脈沖濺射，共濺射，射頻偏壓濺射；可以實(shí)現(xiàn)三級(jí)加熱，高加熱溫度可以達(dá)到900 °C；可以配置進(jìn)樣室（單片或多片），大可以處理的工件直徑可以達(dá)到 300mm ；系統(tǒng)真空室規(guī)格從18英寸（457mm）到 35英寸（890mm）可選；高真空采用分子泵或低溫泵獲得；可以采用PLC觸摸屏控制系統(tǒng)或計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)。