VTC-5RFI薄膜研究 5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌 合肥科晶
型號 VTC-5RFI薄膜研究
產(chǎn)地 安徽省合肥市蜀山區(qū)科學(xué)院路10號
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2024/10/22 16:29:35
訪問次數(shù) 3324

產(chǎn)品標(biāo)簽

射頻濺射儀合肥科晶合肥科晶實驗室科晶集團江曉平

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公司介紹 主營產(chǎn)品

　　合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年，是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設(shè)備：包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機、自動研磨、拋光機)。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品，其中包括：箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備?，F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設(shè)備的*，為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計*、性能優(yōu)異，質(zhì)量可靠，性價比高，環(huán)保節(jié)能、返修率低，遠(yuǎn)銷到歐洲，美國，日本，德國等許多國家，廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域，受到客戶*好評。

　　科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進步和社會發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

展開

真空管式爐，高溫箱式爐，高速震動球磨機，RTP快速退火爐，高溫高壓爐，涂覆機，電池制備設(shè)備等

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VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

技術(shù)參數(shù)

概念	5個濺射頭安裝5種不同材料通過不同的濺射時間，5種材料可以濺射出不同組分的產(chǎn)物，選擇5個等離子射頻電源，可在同一時間濺射5種材料真空腔體中安裝有旋轉(zhuǎn)樣品臺，可以制作16個樣品
電源	單相220 VAC, 50 / 60 Hz
射頻電源	一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環(huán)境中自動切換可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。所有的濺射參數(shù)，都可由電腦設(shè)置
直流電源（可選）	可選購直流電源，來濺射金屬靶材可配置5個直流或射頻電源，來同時濺射5中靶材
磁控濺射頭	5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層可在本公司額外購買射頻線電動擋板安裝在濺射腔體內(nèi) 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機，水流量為10L/min (1) (2) (3) (4)
濺射靶材	所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm 濺射距離: 50 – 80 mm（可調(diào)）濺射角度: 0 – 25°（可調(diào)）配有銅靶和 Al₂O₃ 靶，用于樣品測試用可在本公司購買各種靶材實驗時，需要將靶材和銅片粘合，可通過導(dǎo)電銀漿粘合（可在本公司購買導(dǎo)電銀漿）
真空腔體	真空腔體采用304不銹鋼制作腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L) 鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）
樣品臺	直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜樣品臺可以加熱，zui高溫度可達(dá)600℃
真空泵	設(shè)備中配有一小型渦旋分子泵真空泵接口為KF40
石英振蕩測厚儀（可選）	可選購精密石英振蕩測厚儀，安裝在真空腔體內(nèi)，實時測量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷）
凈重	60kg
質(zhì)量認(rèn)證	CE認(rèn)證
質(zhì)保	一年質(zhì)保期，終生維護
應(yīng)用注意事項	此款設(shè)備設(shè)置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環(huán)境所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購買），所用Ar氣純度為5N 為了得到較好質(zhì)量的薄膜，可以對基片進行清洗用超聲波清洗機，用丙酮或乙醇作為清洗介質(zhì)，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環(huán)境下對基片干燥等離子清洗機，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學(xué)活性，清除表面污染物可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性濺射一些非導(dǎo)電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜因為濺射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時，必須切斷電源不可用自來水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應(yīng)該用等離子水，或冷卻介質(zhì)