EMPro *型多入射角激光橢偏儀
- 公司名稱 北京賽凡光電儀器有限公司
- 品牌
- 型號 EMPro
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2015/12/25 12:58:30
- 訪問次數(shù) 673
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EMPro是針對研發(fā)和質量控制領域推出的*型多入射角激光橢偏儀。
EMPro 可在單入射角度或多入射角度下進行高精度、高準確性測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時測量塊狀材料 的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實時測量快速變化的納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設計實現(xiàn)了納米薄膜的厚度測 量。
EMPro采用了量拓科技多項技術。
特點：
原子層量級的*靈敏度
*的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的極薄納米薄膜，膜厚精度達到0.01nm，折射率精度達到0.0001。
百毫秒量級的快速測量
水準的儀器設計，在保證*精度和準確度的同時，可在幾百毫秒內快速完成一次測量，可滿足單原子膜層生長的實時測量。
簡單方便的儀器操作
用戶只需一個按鈕即可完成復雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行高級測量設置。
應用：
- EMPro適合于高精度要求的科研和工業(yè)產品環(huán)境中的新品研發(fā)或質量控制。
- EMPro可用于測量單層或多層納米薄膜層構樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
- EMPro可應用的納米薄膜領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?？蓱玫膲K狀材料領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。
技術指標：
項目 | 技術指標 |
儀器型號 | EMPro31 |
激光波長 | 632.8nm (He-Ne Laser) |
膜厚測量重復性（1） | 0.01nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率測量重復性(1) | 1x10-4 (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
單次測量時間 | 與測量設置相關，典型0.6s |
結構 | PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有*的準確度） |
激光光束直徑 | 1mm |
入射角度 | 40°-90°可手動調節(jié)，步進5° |
樣品方位調整 | Z軸高度調節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調節(jié)：±4° 樣品對準：光學自準直和顯微對準系統(tǒng) |
樣品臺尺寸 | 平面樣品直徑可達Φ170mm |
zui大的膜層范圍 | 透明薄膜可達4000nm 吸收薄膜則與材料性質相關 |
zui大外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角為90º時) |
儀器重量（凈重） | 25Kg |
選配件 | 水平XY軸調節(jié)平移臺 真空吸附泵 |
軟件 | ETEM軟件： l 中英文界面可選； l 多個預設項目供快捷操作使用； l 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合； l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持 |
注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量25次所計算的標準差。
性能保證：
- 高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、*的采樣方法以及低噪聲探測技術，保證了高穩(wěn)定性和高準確度
- 高精度的光學自準直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對準
- 穩(wěn)定的結構設計、可靠的樣品方位對準，結合*的采樣技術，保證了快速、穩(wěn)定測量
- 分立式的多入射角選擇，可應用于復雜樣品的折射率和厚度的測量
- 一體化集成式的儀器結構設計，使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
- 一鍵式軟件設計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
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