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橢偏儀

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激光橢圓偏振測厚儀;橢偏儀

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本公司生產(chǎn)的橢偏儀適用于大學(xué)和科研院所,具有高精度和完整的測量功能。儀器的狀態(tài)調(diào)整、參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)采集和處理,均通過計算機自動完成。從紅外至紫外的寬廣光譜區(qū),波長連續(xù)可調(diào),入射角度在20度到90度內(nèi)連續(xù)可調(diào)。產(chǎn)品主要有兩個系列:1.全自動高精度橢圓偏振光譜儀(ELLIP-SR型)-專業(yè)型 主要適用于科研院所的信息光電子功能薄膜、體材料的光學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)特性研究,可被研究材料種類包括:金屬和合金、元素和化合物半導(dǎo)體、絕緣體、超導(dǎo)體、磁性和磁光材料、有機材料、多層薄膜材料等。在測量中,可按研究條件同時對入射角和波長進(jìn)行自動精細(xì)掃描,增加研究的靈活性,便于用戶獲得更多的光譜信息進(jìn)行數(shù)據(jù)分析,提高研究的質(zhì)量和可靠性。該光譜儀的性能指標(biāo)達(dá)到同類技術(shù)的*水平 。主要技術(shù)參數(shù): 波長范圍 250-830nm(可按需拓展) 光源 氙燈入射角范圍 20-90度 波長分辨率 1.0nm 入射角范圍 20-90度 入射角精度 0.001度 橢偏參數(shù)精度 D±0.02度;Y±0.01度 光學(xué)常數(shù)精度 優(yōu)于0.5% 膜厚準(zhǔn)確度 ±0.1nm 測量方式 同步 定標(biāo)方式 自洽、 探測器 光電倍增管 主要用途: 1. 各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜學(xué)特性分析; 2. 測量薄膜材料的折射率和厚度; 測量對象包括:金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、薄膜材料、光電材料、非線性材料; 測量光學(xué)常數(shù):復(fù)折射率的實虛部、復(fù)介電常數(shù)的實虛部、吸收系數(shù)a、反射率R.  2.全自動單波長橢圓偏振光譜儀(ELLIP-ER型)-普及型 。本公司研制的固定波長可變?nèi)肷浣菣E圓偏振光譜儀,廣泛適用于大學(xué)教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域,具有很高的性價比,為一款普及型的光譜測試儀器。 主要技術(shù)參數(shù):波長 650nm 光源 半導(dǎo)體激光器 入射角范圍 20-90度 測量模式 反射 測量方式 旋轉(zhuǎn)起偏和檢偏器,自動完成信號測量 實測光學(xué)常數(shù)種類 復(fù)折射率 復(fù)介電常數(shù) 吸收系數(shù) 反射率 膜厚精度 ±1nm 系統(tǒng)定標(biāo)方式 自洽、定標(biāo)   主要用途: 1.各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜學(xué)特性分析; 2.測量薄膜材料的折射率和厚度; 測量對象包括:金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料;測量光學(xué)常數(shù):復(fù)折射率的實虛部、復(fù)介電常數(shù)的實虛部、吸收系數(shù)a、反射率R.

橢偏儀

激光橢圓偏振測厚儀(ELLIP-EY)

適用于高校教學(xué)和工業(yè)薄膜測試為一款普及型的測試儀器。
 
產(chǎn)品技術(shù)參數(shù):
波長 650nm
光源 半導(dǎo)體激光器
固定入射角 70度
測量模式 反射
測量方式 自動完成信號測量
實測光學(xué)常數(shù)種類復(fù)折射率 復(fù)介電常數(shù) 吸收系數(shù) 反射率
膜厚精度 ±1nm
系統(tǒng)定標(biāo)方式自洽、定標(biāo)
 
產(chǎn)品用途:
1.各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜學(xué)特性分析;
2.測量薄膜材料的折射率和厚度;
測量對象包括:金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料;測量光學(xué)常數(shù):復(fù)折射率的實虛部、復(fù)介電常數(shù)的實虛部、吸收系數(shù)a、反射率R.

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