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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>實驗室用反應(yīng)設(shè)備>其它合成反應(yīng)>GEMStar-4/6/8 XT 三維原子層沉積系統(tǒng)ALD

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GEMStar-4/6/8 XT 三維原子層沉積系統(tǒng)ALD

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  • 我們是誰

    美國Quantum Design公司是科學(xué)儀器制造商,其研發(fā)生產(chǎn)的系列磁學(xué)測量系統(tǒng)及綜合物性測量系統(tǒng)已成為業(yè)內(nèi)進的測量平臺,廣泛分布于全球材料、物理、化學(xué)、納米等研究域的科研實驗室。Quantum量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司(暨Quantum Design中國子公司) 成立于2004年,是美國Quantum Design公司設(shè)立的諸多子公司之,在全權(quán)負責(zé)美國Quantum Design公司本部產(chǎn)品在中國的銷售及售后技術(shù)支持的同時,還致力于和范圍內(nèi)物理、化學(xué)、生物域的科學(xué)儀器制造商進行密切合作,幫助中國市場引進更多全球范圍內(nèi)的質(zhì)設(shè)備和技術(shù),助力中國科學(xué)家的項目研究和發(fā)展。

  • 我們的理念

    Quantum Design中國的長期目標是成為中國與進行進技術(shù)、進儀器交流的重要橋頭堡。助力中國科技發(fā)展的十幾年中,Quantum Design中國時刻保持著積進取、不忘初心、精益求精的態(tài)度,為中國科學(xué)家提供更質(zhì)的科學(xué)和技術(shù)支持。隨著中國科學(xué)在舞臺變得愈加舉足輕重,Quantum Design中國將繼續(xù)秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中國科技蓬勃發(fā)展,助力中國科技在騰飛!

  • 我們的團隊

    Quantum Design中國擁有支具備強大技術(shù)背景、職業(yè)化工作作風(fēng)的團隊,并致力于培養(yǎng)并引進更多博士業(yè)技術(shù)人才。目前公司業(yè)務(wù)團隊高學(xué)歷業(yè)碩博人才已占比超過70%以上,高水平人才的不斷加入和日益密切的團隊配合幫助QD中國實現(xiàn)連續(xù)幾年銷售業(yè)績的持續(xù)增長

  • 我們的服務(wù)


  • Quantum Design中國擁有完善的本地化售前、售中和售后服務(wù)體系。國內(nèi)本地設(shè)有價值超過50萬美元的備件庫,用于加速售后服務(wù)響應(yīng)速度;同時設(shè)有超過300萬美元的樣機實驗室,支持客戶對設(shè)備進行進步體驗和深度了解。 “不僅提供超的產(chǎn)品,還提供超的售后服務(wù)”這將是Quantum Design中國區(qū)別于其他科研儀器供應(yīng)商的重要征,也正成為越來越多科學(xué)工作者選擇Quantum Design中國的重要原因。



PPMS,MPMS,低溫磁學(xué),表面成像,樣品制備,生命科學(xué)儀器

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子

臺式三維原子層沉積系統(tǒng)ALD簡介:

原子層沉積(Atomic layer deposition, ALD)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器,化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法,是種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此,它是種真正的“納米”技術(shù),以精確控制方式實現(xiàn)納米的超薄薄膜沉積。由于ALD用的是飽和化學(xué)吸附的性,因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統(tǒng),在小巧的機身(78 x56 x28 cm)中集成了原子層沉積所需的所有功能,可zui多容納9片8英寸基片同時沉積。GEMStar XT全系配備熱壁,結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱,管路加熱,橫向噴頭等設(shè)計, 使溫度均勻性高達99.9%,氣流對溫度影響減少到0.03%以下。高溫度穩(wěn)定度的設(shè)計不僅實現(xiàn)在 8英寸基體上膜厚的不均勻性小于1%,而且更適合對超高長徑比的孔徑結(jié)構(gòu)等3D結(jié)構(gòu)實現(xiàn)均勻薄膜覆蓋,可實現(xiàn)對高達1500:1長徑比微納深孔內(nèi)部的均勻沉積。

GEMStar XT 產(chǎn)品點:

l  300℃ 鋁合金熱壁,對流式溫度控制

l  175℃溫控150ml前驅(qū)體瓶,200℃溫控輸運支管

l  可容納多片4,6,8英寸樣品同時沉積

l  可容納1.25英寸/32mm厚度的基體

l  標準CF-40接口

l  可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

l  等離子體輔助ALD插件

l  多種配件可供選擇

GEMStar XT 產(chǎn)品型號:

GEMStar -4 XT:

l  zui大4英寸/100 mm基片沉積

l  單路前驅(qū)體輸運支管, 4路前驅(qū)體瓶接口

l  不可升為等離子體增強ALD

GEMStar -6/8 XT:

l  zui大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉積

l  雙路前驅(qū)體輸運支管, 8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口

l  可升為等離子體增強ALD

 三維原子層沉積系統(tǒng)ALD

GEMStar -8 XT-P:

l  zui大8英寸/200mm基片沉積

l  雙路前驅(qū)體輸運支管, 8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口

l  裝備高性能ICP等離子發(fā)生器

13.56 MHz 的等離子源非常緊湊,只需風(fēng)冷,zui高運行功率達300W。

l  標配3組氣流質(zhì)量控制計(MFC)控制的等離子氣源線,和條MFC控制的運載氣體線,使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實現(xiàn)均勻沉積。

豐富配件:


多樣品托盤:

l  多樣品夾具,樣品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。

l  多基片夾具,zui多同時容納9片基片。{C}{C}


溫控?zé)嵬斜P:

l  可加熱樣品托盤,zui高溫度500℃,可實現(xiàn)熱盤-熱壁復(fù)合加熱方式。

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尾氣處理系統(tǒng):

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臭氧發(fā)生器:

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粉末旋轉(zhuǎn)沉積罐模塊:

配合熱壁加熱方式,進步實現(xiàn)對微納粉末樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。

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手套箱接口:

可從側(cè)面或背面*接入手套箱,與從底部接入手套箱不同,不占用手套箱空間。由于主機在手套箱側(cè)面,反應(yīng)過程中不對手套箱有加熱效應(yīng),不影響手套箱內(nèi)溫度。

 

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國內(nèi)外用戶

已發(fā)表文獻

1、  Lo?c Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b

2、  Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003

3、 HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019

4、  Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239

5、 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal?Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957?10962. DOI: 10.1021/jp502669f

6、  Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.

7、  Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f

8、 Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813

9、 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f

10、  Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023

11、  Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168

12、   Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.




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