納騰儀器閃耀第十四屆納博會(huì),硬實(shí)力展現(xiàn)科技魅力
【化工儀器網(wǎng) 展會(huì)報(bào)道】 2024年10月23日,第十四屆中國(guó)國(guó)際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)(簡(jiǎn)稱(chēng)“納博會(huì)”)在蘇州國(guó)際博覽中心盛大開(kāi)幕。作為納米科技領(lǐng)域的盛會(huì),納博會(huì)吸引了全球各地的納米技術(shù)相關(guān)企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)和專(zhuān)業(yè)觀眾前來(lái)參展和交流。本次展會(huì)聚焦微納制造、第三代半導(dǎo)體、柔性印刷電子、納米壓印、纖維/凝膠/影像材料、光電/激光、新型顯示、分析檢測(cè)、納米應(yīng)用等領(lǐng)域,為納米領(lǐng)域技術(shù)展示和交流提供重要平臺(tái)。上海納騰儀器有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“納騰儀器”)作為納米科學(xué)儀器領(lǐng)域的佼佼者,攜其產(chǎn)品亮相此次納博會(huì),成為展會(huì)的一大亮點(diǎn)。
納騰儀器是一家專(zhuān)注于為微納米科學(xué)領(lǐng)域提供相關(guān)設(shè)備和服務(wù)的企業(yè),同時(shí)也是國(guó)內(nèi)微納耗材銷(xiāo)售眾多的公司。自成立以來(lái),一直致力于推薦、引進(jìn)和轉(zhuǎn)化在納米科學(xué)、物理、化學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研教學(xué)領(lǐng)域內(nèi)起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品。此次參展,公司帶來(lái)了多款產(chǎn)品,包括Zeta光學(xué)輪廓儀、Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)、Filmetrics R50薄膜電阻率測(cè)繪系統(tǒng)等。
在展會(huì)現(xiàn)場(chǎng),納騰儀器的展位吸引了眾多專(zhuān)業(yè)觀眾的目光。公司代表詳細(xì)介紹了產(chǎn)品的技術(shù)特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域,并現(xiàn)場(chǎng)演示了產(chǎn)品的操作流程和實(shí)際效果,贏得了現(xiàn)場(chǎng)觀眾的一致好評(píng)。
上海納騰儀器有限公司展位
Zeta光學(xué)輪廓儀
Zeta光學(xué)輪廓儀
基于 ZDot 專(zhuān)利技術(shù),KLA 的 Zeta-20/300 光學(xué)輪廓儀可以對(duì)近乎所有材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行三維成像測(cè)量分析,從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。由于多種光學(xué)模式和模塊化設(shè)計(jì)理念,納騰儀器為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來(lái)滿足各種不同的測(cè)量需求,所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù),同時(shí)采集高分辨率 3D 掃描和真彩色無(wú)限對(duì)焦圖像,也可用于樣品審查或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生、電子、航天、汽車(chē)等領(lǐng)域。
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀優(yōu)點(diǎn):
1.多功能——能夠在任何表面上進(jìn)行多次測(cè)量
2.特定應(yīng)用軟件和算法
3.對(duì)振動(dòng)和樣品傾斜不敏感
4.高光通量設(shè)計(jì)——實(shí)現(xiàn)其他系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行的測(cè)量
5.易于使用——用戶可以快速啟動(dòng)和運(yùn)行
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝,是光刻工藝的延伸應(yīng)用。電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光技術(shù)的硬件平臺(tái),系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等指標(biāo)。
Pharos 310可在4寸基片上曝光<20nm關(guān)鍵特征尺寸。利用Pharos310系統(tǒng)可輕松曝光復(fù)雜版圖,是實(shí)驗(yàn)室條件下進(jìn)行亞微米至納米級(jí)別光刻技術(shù)研發(fā)的利器。
Filmetrics R50薄膜電阻率測(cè)繪系統(tǒng)
Filmetrics R50薄膜電阻率測(cè)繪系統(tǒng)
Filmetrics R50是KLA薄膜電阻和電導(dǎo)率系統(tǒng)的最新產(chǎn)品,它的性能針對(duì)金屬膜均勻性映射、離子摻雜和注入表征、膜厚度和電阻率映射以及非接觸膜厚度測(cè)量進(jìn)行了優(yōu)化,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體、先進(jìn)封裝、太陽(yáng)能、平板和VR顯示、印刷電路、可穿戴設(shè)備、導(dǎo)電材料等領(lǐng)域。
Filmetrics R50薄膜電阻率測(cè)繪系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì):
1.可選接觸式四探針探頭和非接觸式渦流探頭
2.最大樣品高度100mm,具有粗調(diào)和細(xì)調(diào)兩種高度控制方式
3.導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體薄膜的測(cè)量技術(shù)領(lǐng)先十年
4.使用矩形、線性、極軸和自定義配置的測(cè)試點(diǎn)自定義編輯
5.高精度X-Y工作臺(tái),Z向行程200mm。
6.易于使用的軟件界面
7.兼容所有KLA薄膜電阻探頭
此次亮相納博會(huì),不僅展示了納騰儀器在納米科學(xué)儀器領(lǐng)域的較高地位和創(chuàng)新能力,也為公司拓展市場(chǎng)、提升品牌影響力提供了重要契機(jī)。未來(lái),上海納騰儀器有限公司將繼續(xù)秉承“創(chuàng)新、專(zhuān)業(yè)、服務(wù)”的企業(yè)理念,致力于為各大高校、科研院所、工廠企事業(yè)單位提供先進(jìn)的科學(xué)儀器及相關(guān)耗材,為推動(dòng)祖國(guó)微納米事業(yè)的騰飛貢獻(xiàn)更多力量。
此次納博會(huì)的成功舉辦,不僅為全球納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)搭建了一個(gè)交流與合作的重要平臺(tái),也為納騰儀器等企業(yè)提供了展示實(shí)力、拓展市場(chǎng)的寶貴機(jī)會(huì)。相信在未來(lái)的發(fā)展中,納米技術(shù)將繼續(xù)引領(lǐng)科技創(chuàng)新的潮流,為人類(lèi)社會(huì)帶來(lái)更多的福祉和進(jìn)步。
關(guān)注本網(wǎng)官方微信 隨時(shí)閱讀專(zhuān)業(yè)資訊
- 品質(zhì)創(chuàng)造價(jià)值 矽萬(wàn)半導(dǎo)體驚艷亮相納博會(huì) 2024-10-29 10:21:33
- 在本次CHInano博覽會(huì)上,矽萬(wàn)半導(dǎo)體向參展觀眾展示了其最新的半導(dǎo)體技術(shù)和產(chǎn)品,包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。
- 關(guān)注納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展 天仁微納攜納米壓印光刻設(shè)備亮相納博會(huì) 2024-10-25 15:13:58
- 此次納博會(huì)吸引了全球納米科技領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂,共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責(zé)任公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng):天仁微納)作為參展企業(yè)之一,攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光
- 聚焦第十四屆納博會(huì) 雷博科儀攜薄膜制備設(shè)備彰顯實(shí)力 2024-10-25 11:34:04
- 雷博科儀亮相第十四屆納博會(huì),攜其最新研發(fā)的HP100-SA充氮型程控烤膠機(jī)和AC200-SE標(biāo)準(zhǔn)型程控伺服勻膠機(jī)驚艷亮相,展現(xiàn)了公司在高性能薄膜制備設(shè)備領(lǐng)域的創(chuàng)新實(shí)力。
- 預(yù)算290萬(wàn) 北京大學(xué)集成電路學(xué)院采購(gòu)場(chǎng)發(fā)射電鏡電子束曝光系統(tǒng) 2024-10-21 10:32:12
- 近日,北京大學(xué)集成電路學(xué)院就“場(chǎng)發(fā)射電鏡電子束曝光系統(tǒng)采購(gòu)項(xiàng)目”發(fā)布招標(biāo)公告,預(yù)算金額為290萬(wàn)元。
版權(quán)與免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)或和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。