藍(lán)星宇協(xié)同日本SEN特殊光源集團(tuán)致力于LCD,PCB,OLED,PDP,IC,光學(xué),水處理,醫(yī)療等行業(yè)特殊光源研發(fā),生產(chǎn)與銷售,我司是日本SEN特殊光源集團(tuán)中國*代理, 全面負(fù)責(zé)SEN UV光源/設(shè)備,配件及其光測量儀等在中國市場的銷售與服務(wù)。業(yè)務(wù)范圍已遍及全國各地(含HK), 在香港, 深圳已設(shè)立公司, 華東及華北分公司正在規(guī)化中。光源產(chǎn)品已獲得國內(nèi)外眾多高科技公司及世界500強(qiáng)企業(yè)認(rèn)可采用。          

    日本SEN公司創(chuàng)建于1966年, 已有40余年專業(yè)歷史, 是UV領(lǐng)域?qū)＜摇Ｆ?品質(zhì)，高性價比的各類UV產(chǎn)品，在LCD,PCB,OLED,PCB,IC,光學(xué)品,水處理等行業(yè)享有很高的聲譽。                                  

   “以人為本，感恩共贏”是我們的經(jīng)營理念，同時我們憑著穩(wěn)定的品質(zhì)，準(zhǔn)時的交期，合適的價格，優(yōu)秀的服務(wù)以及強(qiáng)有力的市場開拓，贏得了越來越多的*客戶認(rèn)可,同時使得我司有幸與SEN，ORC等世界各地生產(chǎn)廠商不斷加強(qiáng)良好的合作關(guān)系。

一.主營產(chǎn)品Product Catalog:

 紫外光清洗燈, UV固化燈, 曝光燈, 點光源燈, 殺菌消毒燈, 醫(yī)療燈,金鹵燈, 臭氧燈, 曬版燈, 鹵鎢燈, 紅外線燈, 特殊熒光燈等。

 紫外光清洗機(jī), UV固化機(jī), 點光源機(jī), 曝光機(jī), 曬版機(jī)，水凈化機(jī),環(huán)境/醫(yī)療殺菌消毒裝置，光化學(xué)反應(yīng)裝置等。

 UV能量表, UV照度計, UV光譜計, 麥拉, 水套, 離子罐, 曝光尺, 真空泵等。

 

D. 德國DIENER等離子清洗機(jī), 德國OPTOSOL太陽能儀器

 

二.客戶分布Application Fields：            

液晶，OLED，電路板，IC半導(dǎo)體，醫(yī)療，電子器件，塑膠，涂料, 印刷包裝，環(huán)境科學(xué),鏡頭,光纖/光盤/光頭, 制鞋，木業(yè)，化工，飲料，水處理等。   

 

三.合作伙伴Partner:

SEN,DIENER,OPTOSOL,ORC,USHIO,AMBA,YUMEX,OSRAM,PHILIPS,EYE,HAMAMATSU,C,SUN,NAIS,PRIMARC,APHA-CURE,THEIMER,TOSHIBA,MORITEX,LESCO,DYMAX,HOYA-SCHOT,FUJI,LUXTEL,HITACHI,NIKON,GE,BLV…                    

 

紫外線UV光清洗燈SEN全系列燈管型號:1.冷陰極低壓汞燈SP SL系列,低能低壓汞燈UVL系列,標(biāo)準(zhǔn)低壓汞燈SUV系列,高能/超高能低壓汞燈EUV系列; 2.高壓汞燈HL系列;3.金鹵燈ML系列; 4.臭氧燈SL系列.

 

 

 

一、紫外光清洗的工作原理：

      光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。

      更詳細(xì)的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時,大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。

二、光清洗的特點light clean feature：

1、可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。                  

2、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。

3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。

4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。

5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。

6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。



 

三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍：

   主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法Z為合適。

    主要材料：Ito玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

    可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。

    此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同，差別在于制造工藝要求的不同。